研磨平板是一种为了能够工件精度和表面光洁度而利用涂敷或压嵌在研磨平板上的磨料颗粒，通过研磨平板与工件在压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工而衍生的一种铸铁平板。
研磨平板用途：量具的制造、修理， 制件研磨，高精度机械零件制作，光学仪器的加工。
研磨工序--干研磨，主要是嵌入研磨平板表面的砂粒起切削作用。当零件在研磨压力的作用下，在嵌有砂粒的研磨平板上相对滑动时，砂粒对被研磨表面的高点产生压缩作用，由于内应力的增大而产生弹性变形。当应力强过屈服点后，便进入塑性变形，晶粒和晶粒之间产生滑移，随着变形的增大，到后来失去联系而破裂，这便是所谓的研屑。研磨辅料的存在，改 善了切削条件，促进了研磨质量和效率的提高。 在切削作用的同时，还存在着其它一些辅助作用。如氧化膜的形成和去除；砂粒挤压产生的塑性变形作用；摩擦和切削所起的热熔作用，这些作用随着磨料粒度的细化而增强。
研磨工序--湿研磨，由于不间断的添加研磨剂，不但有新砂粒参加研削，而且砂粒的各个微刃变换切削，使各个锋刃都发挥了作用，同时冷却润滑条件良好。随着研磨剂中活化辅料的增加，化学作用和电化学作用也随之增强。这是使之成为效率较高研磨方法的主要原因。研磨平板
抛光是复杂的加工过程。研磨剂中品种繁多的活化物质大量增加，化学作用活跃频繁，磨料只起到破坏氧化膜的作用。同时，磨料的本身便起着化学作用。如氧化铬中的游离硫磺蒸汽与金属表面起化学作用，形成了一层很薄的强度很低的硫化膜，它对硬脂酸和氧化铬起吸附作用。当零件与研具相对滑动时，吸附在零件表面的氧化铬将高点的硫化膜破坏，重新露出新鲜的金属，复而又形成硫化膜，便这样反复不断的对零件的波峰进行光整加工。
